供应Micro-Controle MA750光罩对准曝光系统

1、设备名称：Micro-Controle MA750光罩对准曝光系统
2、设备品牌：Micro-Controle 
3、设备规格：MA750
4、设备中文名称： MA750光罩对准曝光系统
5、设备应用领域：半导体、MEMS、微电子、LED、薄膜电池
6、设备中文资料
产品规格：
基板对齐“3”，没有厚度限制。
曝光基板大于3，在手动模式，而没有对准“。
面膜持有人4“× 4”，2.5“×2.5”，3“× 3”
在XY等Z的阶段在XY，Z轴翻译显微镜翻译。摇杆操作。
原产地初始化，翻译电机位置的数字显示。
掩模架垂直翻译，接触力下的充分接触可以通过软件的参数（**于999gr）。
汞灯350W MA750D工具（氮气冷却）和汞灯200W MA750G工具（呼吸机冷却）。
MA750D工具配备一个真空室。
显微镜：三个目标（5X，10X，20X）达到X12，5较大放大倍率X500，焦距增加一倍。
Alignement精度：±1微米（MA750D），±2μm的（MA750G）。
优化可实现分辨率：?3μm的 - MA750G工具，1μm的MA750D工具